ANADIGICS-将中国优秀工程人才与先进的砷化镓工艺结合起来zz

iview Post at 2008/9/19 17:44:00

在各种无线移动通信设备中,无论从哪个角度来看,功率放大器都称得上是举足轻重。截至目前,尽管很多国际半导体公司向中国引进了许多先进工艺技术,但是这类高端工艺还都留在发达国家,中国本土还没有一家公司拥有此类工艺。

而在中国获得不菲业绩的ANADIGICS公司,率先将其砷化镓高端工艺引进中国。目前,其在昆山新建设的半导体厂进展顺利,很快就将进入到设备安装阶段。第一批核心技术员工已经到位,大批量的招工也已经开始。本次精英访谈,我们特别邀请到了该公司CTO?S清亮博士,就目前国际上功率半导体的发展趋势、ANADIGICS中国新建工厂的工艺定位,以及中国半导体行业工程师状况等话题,进行了广泛讨论。

当前国际功率半导体领域有什么发展趋势?

目前,在无线通信领域,各式各样的原因导致了各种标准林立的局面。所以说,未来的发展趋势是多标准多频段的集成问题。而如何利用更少数量的功率放大器来支持更多的标准和频段,将是功率放大器发展的极大挑战。

目前,我们已经将多个频段集成到了一个芯片模组上,其中还包括天线开关、低噪声放大器、滤波器等。CDMA可能就有8-9个不同的频段,这在以前需要很多的功放,而现在我们的产品中,一个模组就覆盖了几个频段。未来,我们必须考虑对无线技术更好的覆盖,不仅要包括现有的EDGEHSPAWiFi、各种CDMA,还要考虑到未来的LTE以及WiMAX。另外,我们不仅考虑到用更少的功率放大器覆盖更多无线标准的发射通道,还通过将低噪声放大器与功率放大器集成到一起,实现了收发前端都能共享一个模组。

各大公司都在开发各种射频功率半导体工艺,ANADIGICS为何如此钟情于砷化镓工艺?

的确,现在被大家热炒的有好几种工艺,应该说,每种工艺都有其优缺点,甚至有不少人声称硅基工艺已经可以替代砷化镓工艺了。这里我首先要强调的是,不管大家怎么炒作,但从过去5年的事实来看,砷化镓的市场份额不是缩小了,而是继续扩大了。像WiFi等无线标准对器件的健壮性要求很高,硅基工艺是做不到的。

随着最新的无线标准出台,大家不难发现,无论是CDMALTE还是WiMAX,都要求功率放大器具有很高的线性度,在这方面硅工艺受到物理性能的限制,表现并不是太好。另一个重要问题是功耗,砷化镓工艺的功放具有很好的功耗性能,其功率增加效率要比硅基半导体高出不少。这在靠电池供电的移动设备中非常重要。再加上我们推出的HELP系列功放产品,将功耗降低了很大的幅度,有效延长了电池的供电时间。

所以说,在未来35年里,砷化镓基于物理上的表现,仍将会得到更好的发展。除非硅基半导体在性能、功耗和坚固性这几方面能够达到砷化镓的水平,方可取代砷化镓。不过,在接收方面CMOS是占绝对优势的。但对于发射方面,则是砷化镓工艺的优势所在。

在中国昆山的新厂将采用什么水平的工艺?

我们在中国的昆山市新建了第一座砷化镓工艺的晶圆厂。在这座即将开始设备安装的工厂里,我们拿来的是最新的工艺,即我们的BiFET工艺,即将安装的所有设备都是目前国际上最新型的全新设备。而原来的比较陈旧的工艺,如MESFETHBT等,仍然在美国生产。目前,中国的工厂从去年12月开始建厂以来,进展很顺利,昆山地方政府对该项目很支持,在配合方面效率很高,目前所有办公和厂房都已经封顶,相信很快就将进入设备安装阶段,并于今年底正式投产。

ANADIGICS在中国取得不小的成功,可否与大家分享一下经验?

我们长期和客户保持良好的关系,在产品开发出来之前,我们就开始耕耘市场,等到产品开发出来并取得技术优势时,市场自然就是我们的了。另外一个关键的是,公司高层,包括总裁Ali Khatibzdeh和我本人,经常到中国来拜访客户,直接沟通节省了许多渠道,保证了信息的准确性。说到底,就是我们缺乏中国经常说的官僚主义。我们从95年就开始到中国发展,虽然开始时没有太大进展,可是我们与中国的厂家建立了良好关系,等到2003年左右,我们的产品做到了领先,他们就开始大批量地使用我们的产品。虽然各家公司都会重视客户,但和我们来比,还是要差一些。客户和我们都很熟悉。但话说回来,还是要在技术和产品上下真功夫,我们专业做功放,功放产品几乎占到了公司全部产品的80%2005年开始,我们的产品做到了很好,BiFET新工艺推出以来,在满足WCDMA等新标准对功放的线性要求以及移动设备对功耗的要求等方面,我们的新工艺和新产品表现得更好一些。

您对中国半导体行业的工程师有什么评价和寄语?

尽管中国的半导体工业起步很晚,也才刚刚不到20年的时间,但中国目前的半导体人才成长很快,素质也不错,这点从我们这次新厂招工可以看得出来。我们在很短的时间内就组织到了有丰富经验的第一批骨干队伍。

虽然创新性需要相当经验的积累,而积累需要一定的时间。但从我在业界工作这么多年的经验来看,中国工程师在技术方面还是很有能力的,不过他们有一个公共的缺陷就是主动性差一些,因为主管交给的工作,都能做得很好,但在主动提出问题、如何做才能更好这些方面,总是要比美国、甚至台湾的工程师要差一些,这从研讨会上中国工程师总是羞于发言就可以看出来。当然,这与整个的文化教育背景有关。所以,我非常鼓励中国的工程师在做什么事情时更加主动一些,要敢于发表自己的见解。

Charles Huang

清亮博士

Anadigics公司执行副总裁兼首席技术官

作者: 王健

 

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